Optimization of electron beam induced deposition process for the fabrication of diode-like Pt/SiO2/W devices

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Abstract

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Autore Pugliese

Tutti gli autori

  • A. Taurino; I. Farella; A. Cola; M. Lomascolo; F. Quaranta; M. Catalano

Titolo volume/Rivista

Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics and nanometer structures

Anno di pubblicazione

2013

ISSN

1071-1023

ISBN

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