Silicon Doping Effect on SF6/O2 plasma chemical texturing

Abstract

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Tutti gli autori

  • E. Dilonardo; G.V. Bianco; M.M. Giangregorio; M. Losurdo; P. Capezzuto; G. Bruno

Titolo volume/Rivista

Journal of applied physics


Anno di pubblicazione

2011

ISSN

0021-8979

ISBN

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