GC-MS Investigation of Organosilicon and Fluorocarbon Fed Plasmas

Abstract

This paper deals with the GC-MS investigation of the exhaust gas of atmospheric pressure PE-CVD processes inorganosilicon- and fluorocarbon-containing dielectric barrier discharges. The extent of unreacted monomer andthe quali-quantitative distribution of by-products have been investigated as a function of the feed composition.The results confirm that GC-MS is a powerful indirect diagnostic technique of the plasma phase since it allowsto hypothesize some of the reactive moieties formed in the plasma and to clarify some aspects of the depositionmechanism.


Autore Pugliese

Tutti gli autori

  • F. Fanelli; F. Fracassi; S. Lovascio; R. d'Agostino

Titolo volume/Rivista

Contributions to plasma physics


Anno di pubblicazione

2011

ISSN

0863-1042

ISBN

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