GC-MS Investigation of Organosilicon and Fluorocarbon Fed Plasmas
Abstract
This paper deals with the GC-MS investigation of the exhaust gas of atmospheric pressure PE-CVD processes inorganosilicon- and fluorocarbon-containing dielectric barrier discharges. The extent of unreacted monomer andthe quali-quantitative distribution of by-products have been investigated as a function of the feed composition.The results confirm that GC-MS is a powerful indirect diagnostic technique of the plasma phase since it allowsto hypothesize some of the reactive moieties formed in the plasma and to clarify some aspects of the depositionmechanism.
Autore Pugliese
Tutti gli autori
-
F. Fanelli; F. Fracassi; S. Lovascio; R. d'Agostino
Titolo volume/Rivista
Contributions to plasma physics
Anno di pubblicazione
2011
ISSN
0863-1042
ISBN
Non Disponibile
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