Chemical and Morphological Characterization of Low-k Dielectric Films Deposited From Hexamethyldisiloxane and Ethylene RF Glow Discharges

Torna indietro

Abstract

Non Disponibile

Autore Pugliese

Tutti gli autori

  • A.M. Coclite; A. Milella; F. Palumbo; F. Fracassi; R. d'Agostino

Titolo volume/Rivista

Plasma processes and polymers

Anno di pubblicazione

2010

ISSN

1612-8850

ISBN

Non Disponibile

Numero di citazioni Wos

Nessuna citazione

Ultimo Aggiornamento Citazioni

Non Disponibile

Numero di citazioni Scopus

Non Disponibile

Ultimo Aggiornamento Citazioni

Non Disponibile

Settori ERC

Non Disponibile

Codici ASJC

Non Disponibile