Chemical and morphological characterization of low-k dielectric films deposited from Hexamethyldisiloxane and Ethylene RF glow discharges

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Abstract

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Autore Pugliese

Tutti gli autori

  • MILELLA A.;FRACASSI F.

Titolo volume/Rivista

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Anno di pubblicazione

2010

ISSN

1612-8850

ISBN

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Numero di citazioni Wos

7

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Settori ERC

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